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產(chǎn)品展示 當(dāng)前位置:首頁(yè)產(chǎn)品展示—二硅化鉭 Tantalum disilicide(TaSi2)
二硅化鉭 Tantalum disilicide(TaSi2)
產(chǎn)品名稱:二硅化鉭(TaSi2) 規(guī)格:0.8-10um(D50)   形貌:不規(guī)則 顏色:黑灰色  特點(diǎn):高硬度、高熔點(diǎn)、抗氧化以及優(yōu)良的導(dǎo)熱導(dǎo)電性能 用途:集成電路、航空航天、發(fā)動(dòng)機(jī)等領(lǐng)域
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產(chǎn)品詳情
二硅化鉭 Tantalum disilicide(TaSi2)

產(chǎn)品名稱:二硅化鉭(TaSi2

規(guī)格:0.8-10um(D50)  

形貌:不規(guī)則

顏色:黑灰色 

特點(diǎn):高硬度、高熔點(diǎn)、抗氧化以及優(yōu)良的導(dǎo)熱導(dǎo)電性能

用途:集成電路、航空航天、發(fā)動(dòng)機(jī)等領(lǐng)域

名稱:硅化鉭

化學(xué)式: TaSi2

Cas:12067-56-0

熔點(diǎn):2200℃

密度: 9,14 g/cm3 

顏色: 灰黑色

電阻率 (resistivity): 8.5 (ρ/μΩ.cm)

硅化鉭制備:

以金屬鉭和硅粉為原料,將金屬鉭和硅粉進(jìn)行粉碎并混合均勻,再將其放入石墨爐內(nèi)加熱至1100~1500℃進(jìn)行預(yù)反應(yīng),然后通入氫氣,再升溫至800℃進(jìn)行反應(yīng),即得硅化鉭。或者用氫化鈣還原五氧化二鉭得到氫化鉭,再加熱至1800℃得金屬鉭,然后加入硅粉合成得硅化鉭。

硅化鉭 主要用途包括以下幾個(gè)方面‌:

‌1)電熱元件 ‌:硅化鉭具有高熔點(diǎn)和低電阻率,適用于制作電熱元件,能夠高效地轉(zhuǎn)換電能為熱能‌。

2) 高溫結(jié)構(gòu)部件 ‌:由于其優(yōu)異的抗高溫氧化性和良好的兼容性,硅化鉭常用于制造高溫結(jié)構(gòu)部件,如高溫抗氧化涂層和金屬陶瓷‌。

3)集成電路 ‌:在集成電路中,硅化鉭用于連接線路,具有良好的電學(xué)性能和穩(wěn)定性‌。

‌4) 航天航空 ‌:硅化鉭在航天航空領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用,如高溫結(jié)構(gòu)材料和抗氧化涂層,能夠承受極端的高溫環(huán)境‌。

5) 發(fā)動(dòng)機(jī) ‌:由于其優(yōu)異的抗高溫氧化性和機(jī)械性能,硅化鉭也用于發(fā)動(dòng)機(jī)的高溫部件‌。

包裝儲(chǔ)存:本品為充惰氣塑料袋包裝,密封保存于干燥、陰涼的環(huán)境中,不宜暴露空氣中,防受潮發(fā)生氧化團(tuán)聚,影響分散性能和使用效果;包裝數(shù)量可以根據(jù)客戶要求提供分裝。

硅化鉭生產(chǎn)廠家

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